一、研磨工艺的基本定义
铸铁 T 型槽平台的研磨是在精加工基础上，利用研具和磨料从工件表面磨去一层极薄金属的精密加工方法。通过该工艺，平台的尺寸公差等级可达到 IT5～IT3，表面粗糙度 Ra 值能达到 0.1～0.008μm，有效保障了平台的高精度性能。
二、铸铁 T 型槽平台研磨的种类
根据研磨剂的状态和使用方式，研磨可分为以下三种：
湿研：将液状研磨剂涂敷或连续加注于研具表面，磨料（粒度为 W14～W5）在平台与研具间不断滑动与滚动，实现对工件的细致切削。这种方式在铸铁装配平台的研磨中应用较多。
干研：使用糊状研磨膏作为研磨剂，粗研和精研均可采用，适用于对精度有一定要求的加工场景。
半干研：将磨料（粒度为 W3.5～W0.5）均匀压嵌在研具表层，研磨时需在研具表面涂抹少量润滑剂，多用于铸铁平台的精研工序。
三、铸铁 T 型槽平台研磨原理
研磨工艺能实现高精度加工，主要基于以下原理：
微细性：可对铸铁 T 型槽平台进行 0.01～0.1μm 的微量切削，确保表面的精细度。
随机性：平台与研具随机接触，表面高点相互修整，使误差逐步减小，从而提高整体精度。
针对性：通过检测工件，有针对性地调整研磨位置和时间，保证平台的尺寸和形状精度。
四、铸铁 T 型槽平台研磨方法
研磨平面：通常在精磨之后进行。
手工研磨时，将研磨剂涂在研磨平板（研具）上，手持工件作直线往复运动或 “8” 字形运动；研磨一段时间后，将工件调转 90°～180°，防止工件倾斜。
对于工件上局部待研的小平面、方孔、窄缝等，可手持研具进行研磨；批量较大的简单零件平面，可在平面研磨机上完成。
研具材料和研磨剂：
研具材料：铸铁适用于研磨淬硬和不淬硬的钢件及铸铁件；黄铜可用于研磨各种软金属。
研磨剂：包括研磨料（如氧化铝、碳化硅、氧化铁、氧化铈等）和研磨液（如机油、煤油、动物油及油酸、硬脂酸等）。
五、研磨的特点及应用
特点：
设备简单，对精度要求不高。
加工质量可靠，能使平台获得很高的精度和极低的 Ra 值，但一般无法提高加工面与其他表面之间的位置精度。
应用：可加工多种材料，如各种钢、淬硬钢、铸铁、铜铝及其合金、硬质合金、陶瓷、玻璃及某些塑料制品等。广泛应用于单件小批生产中加工各种高精度型面，也可用于大批大量生产。
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